发明名称 纳米压印用树脂制模具
摘要 一种具有表面形成了微细凹凸的树脂层的纳米压印用树脂制模具,其特征在于,该树脂层由1~49重量份的硅氧烷类大分子单体和/或氟类大分子单体与、99~51重量份的选自(甲基)丙烯酸类单体、苯乙烯类单体、环氧类单体、烯烃类单体和聚碳酸酯类树脂形成单体中的至少一种聚合性单体形成,该硅氧烷类大分子单体和/或氟类大分子单体的分子量在600~10000的范围内,同时,该大分子单体的分子末端具有能与聚合性单体共聚的反应性基团,该反应性基团与上述聚合性基团共聚时,构成上述大分子单体的硅氧烷类单元或氟类单元形成相对于由聚合性单体和大分子单体形成的主干聚合物形成侧链。
申请公布号 CN103052492A 申请公布日期 2013.04.17
申请号 CN201180037828.9 申请日期 2011.08.03
申请人 综研化学株式会社 发明人 上原谕;三泽毅秀
分类号 B29C59/02(2006.01)I;B29C33/40(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;B29K27/12(2006.01)I;B29K83/00(2006.01)I 主分类号 B29C59/02(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 侯莉
主权项 一种纳米压印用树脂制模具,由基板和在该基板上形成的树脂层构成,在该树脂层的表面形成了微细凹凸,其特征在于,该树脂层由1~49重量份的硅氧烷类大分子单体和/或氟类大分子单体与、99~51重量份的选自(甲基)丙烯酸类单体、苯乙烯类单体、环氧类单体、烯烃类单体和聚碳酸酯类树脂形成单体中的至少一种聚合性单体形成,该硅氧烷类大分子单体和/或氟类大分子单体的分子量在600~10000的范围内,同时,该大分子单体的分子末端具有能与聚合性单体共聚的反应性基团,该反应性基团与上述聚合性基团共聚时,构成上述大分子单体的硅氧烷类单元或氟类单元相对于由聚合性单体和大分子单体形成的主干聚合物形成侧链。
地址 日本东京