发明名称 Field effect transistor device
摘要 A semi-metallic structure, comprising an LaAlO3—SrTiO3 heterostructure (19), said LaAlO3—SrTiO3 heterostructure comprising a two-dimensional hole gas (21) and a two-dimensional electron gas (23).
申请公布号 GB201304048(D0) 申请公布日期 2013.04.17
申请号 GB20130004048 申请日期 2013.03.06
申请人 TOSHIBA RESEARCH EUROPE LIMITED 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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