发明名称 |
一种光刻版结构及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供了一种光刻版结构,包括:一个基板,位于基板表面的光刻版图形,在光刻版图形表面覆盖有一层或多层透明保护层,位于透明保护层上方的蒙膜,蒙膜将光刻版图形区域罩住;本发明还提供上述光刻版结构的制造方法,包括:在基板表面制备光刻版图形;在光刻版图形的表面形成一层或多层透明保护层;在基板上安装蒙膜。本发明通过在光刻版图形的表面沉积一层或多层透明保护层,对光刻版图形起到保护作用,可以减少和预防光刻版图形表面生成结晶缺陷,从而提高光刻版的投影准确度和良率产出,并且减少光刻版送修的几率,延长光刻版的使用寿命。 |
申请公布号 |
CN103048875A |
申请公布日期 |
2013.04.17 |
申请号 |
CN201210579774.5 |
申请日期 |
2012.12.27 |
申请人 |
上海集成电路研发中心有限公司 |
发明人 |
袁伟 |
分类号 |
G03F1/48(2012.01)I |
主分类号 |
G03F1/48(2012.01)I |
代理机构 |
上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 |
代理人 |
吴世华;林彦之 |
主权项 |
一种光刻版结构,包括一个基板,位于所述基板表面的光刻版图形,位于所述光刻版图形上方的蒙膜,所述蒙膜将所述光刻版图形区域罩住,其特征在于:在所述光刻版图形表面覆盖有一层或多层透明保护层,所述透明保护层位于所述蒙膜的下方。 |
地址 |
201210 上海市浦东新区张江高斯路497号 |