发明名称 PROCEDE D'ENCAPSULATION DE MICRO-DISPOSITIF PAR REPORT DE CAPOT ET DEPOT DE GETTER A TRAVERS LE CAPOT
摘要 <p>Procédé d'encapsulation d'un micro-dispositif (100) dans une cavité (108) formée entre un premier (102) et un deuxième substrat (106), comportant les étapes de : - réalisation du micro-dispositif dans et/ou sur le premier substrat, - report et solidarisation du deuxième substrat au premier substrat, formant la cavité dans laquelle est disposé le micro-dispositif, - réalisation d'au moins un trou (112) à travers l'une des deux substrats (106), appelé substrat percé, et débouchant dans la cavité en regard d'une partie (113) de l'autre des deux substrats (102), appelé substrat d'accueil, - dépôt d'au moins une portion de matériau getter (114) sur ladite partie du substrat d'accueil à travers le trou, - fermeture hermétique de la cavité par obturation du trou.</p>
申请公布号 FR2981059(A1) 申请公布日期 2013.04.12
申请号 FR20110059167 申请日期 2011.10.11
申请人 COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIESALTERNATIVES 发明人 BAILLIN XAVIER;PORNIN JEAN-LOUIS
分类号 B81C1/00 主分类号 B81C1/00
代理机构 代理人
主权项
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