用于阻挡层之化学机械抛光液

摘要

本发明揭露一种用于阻挡层之化学机械抛光液。该化学机械抛光液包含研磨颗粒、蚀刻抑制剂、络合剂、氧化剂、水及季铵盐型阳离子表面活性剂。该化学机械抛光液可改善抛光阻挡层之过程中出现的边缘过度蚀刻、突起及锯齿现象。此外，该化学机械抛光液不会影响对钽、二氧化矽及铜的抛光速率，且对各种材料有适当的抛光速率及抛光选择比。