| 摘要 |
本发明系有关一种高密度微波与特高频混成式电浆镀膜装置，其包括一真空工作容室、一真空抽气部、一对磁力产生部、复数个微波产生单元、一氢气分解部、一反应气体产生部及一电浆阻隔网。先将工件置入真空工作容室，启动磁力产生部，并以微波产生单元产生2.45G赫兹的微波，再以氢气分解部与反应气体产生部分别对真空工作容室供入氢原子与矽烷。由于共振产生面因电子回旋共振现象而形成一电浆源，持续产生高密度低离子能量之电浆，当氢原子与反应气体进入真空工作容室中，反应气体与氢原子进行气相反应并在工件上进行表面反应，进而达到高速与高品质之电浆镀膜。故，本案兼具维护作业容易、系统总耗电量较小、无压力匹配问题、可节省氢气用量且可避免氢原子再复合、增加沉积率及均匀性与可对矩形及较大尺寸或卷绕式的工件进行加工等优点及功效。 |
