| 摘要 |
<p>Ein Ablationsverfahren zum Aufbringen eines Laserstrahls auf ein Substrat, an dem eine Passivierungsschicht aus Nitrid ausgebildet ist, wodurch eine Ablation durchgeführt wird, wird bereitgestellt. Das Ablationsverfahren beinhaltet einen Schutzschichtausbildungsschritt zum Aufbringen eines flüssigen Harzes, das ein feines Pulver eines Oxids, das ein Absorptionsvermögen für die Wellenlänge des Laserstrahls aufweist, enthält, auf zumindest einen abzudampfenden Subjektbereich des Substrats, wodurch eine das feine Pulver enthaltende Schutzschicht an zumindest dem Subjektbereich des Substrats ausgebildet wird, und einen Laserbearbeitungsschritt des Aufbringens des Laserstrahls auf den mit der Schutzschicht beschichteten Subjektbereich, wodurch die Ablation durch die Schutzschicht an dem Subjektbereich des Substrats durchgeführt wird, nachdem der Schutzschichtausbildungsschritt durchgeführt wurde.</p> |
