发明名称 显示装置及其制造方法
摘要 本发明提供一种显示装置,具有显示区及外围区,特点在于显示区内无需设置接触孔,因此无需于显示区内设置承接接触孔的金属图案,借此可提高开口率,显示装置包括:第一金属层设置于显示区及外围区,绝缘层覆盖第一金属层,图案化半导体层设置于显示区的绝缘层上,第二金属层设置于图案化半导体层上及外围区的绝缘层上,透明导电层直接覆盖第二金属层,以及保护层全面性地覆盖第二金属层、图案化半导体层及透明导电层,其中保护层包含第一部分、第二部分及贯穿孔,且第一部分的高度大于第二部分的高度。此外,本发明还提供显示装置的制造方法。本发明可增加显示装置的开口率,降低外围电路的电阻值,减少显示装置的工艺步骤,并节省制造成本。
申请公布号 CN103033997A 申请公布日期 2013.04.10
申请号 CN201110359553.2 申请日期 2011.11.09
申请人 瀚宇彩晶股份有限公司 发明人 吴荣彬;吴健豪;陈柏孝
分类号 G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I 主分类号 G02F1/1362(2006.01)I
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人 姜燕;邢雪红
主权项 一种显示装置,具有一显示区及围绕该显示区的一外围区,该显示装置包括:一第一金属层,设置于该显示区及该外围区;一绝缘层,设置于该显示区及该外围区,覆盖该第一金属层;一图案化半导体层,设置于该显示区的该绝缘层上;一第二金属层,设置于该图案化半导体层上及该外围区的该绝缘层上;一透明导电层,直接覆盖位于该显示区的该第二金属层;以及一保护层,全面性地覆盖该第二金属层、该图案化半导体层及该透明导电层,其中该保护层包含一第一部分、一第二部分及一贯穿孔,且该第一部分的高度大于该第二部分的高度。
地址 中国台湾新北市