发明名称 具有稳定压力背压室的涡卷流体位移装置
摘要 本发明公开了一种具有稳定压力背压室的涡卷流体位移装置,包括,一固定涡卷和一绕动涡卷置于主壳体内部,所述绕动涡卷内设有至少一气道,所述气道能够在所述绕动涡卷与所述固定涡卷做相对运动过程中,连通所述背压气室和所述密封气室,其中,所述绕动涡卷内还设有一单向阀,该单向阀所处的通道与所述气道贯通,所述单向阀的阀头指向所述气道,所述单向阀能够随与所述气道相连通的所述密封气室的压力的升高而打开。使用本发明涡卷流体位移装置,通过在绕动涡卷内的气道上设置一个单向阀,使得背压气室内的压力不随与其相通的密封气室的压力高低变化,保持了轴向偏力维持在合理的范围内。
申请公布号 CN103032320A 申请公布日期 2013.04.10
申请号 CN201110319117.2 申请日期 2011.09.30
申请人 思科涡旋科技(杭州)有限公司 发明人 倪诗茂
分类号 F04C18/02(2006.01)I;F04C29/00(2006.01)I 主分类号 F04C18/02(2006.01)I
代理机构 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人 王敏杰
主权项 一种具有稳定压力背压室的涡卷流体位移装置,包括,一固定涡卷和一绕动涡卷置于一主壳体内部;所述绕动涡卷的上端板的涡卷元件与所述固定涡卷下端板的涡卷元件共轭接触,所述绕动涡卷和所述固定涡卷的所述涡卷元件呈螺旋状或渐开线型;相邻的所述绕动涡卷的涡卷元件与所述固定涡卷的涡卷元件之间接触和分离的部分,以及所述上端板和所述下端板,共同形成至少一密封气室;一主轴的上端部通过轴承连接绕动涡卷的下端板的中部,以带动所述绕动涡卷运动,主壳体开设有进气口,以将外部气体输送至所述密封气室;所述固定涡卷具有排气室,以将运动至所述固定涡卷中心的所述密封气室内的压缩气体排出;所述绕动涡卷的下端板与一绕动推力板接触,并形成至少一背压气室,所述绕动推力板通过轴承连接所述主轴;所述绕动涡卷内设有至少一气道,所述气道能够在所述绕动涡卷与所述固定涡卷做相对运动过程中,连通所述背压气室和所述密封气室,其特征在于,所述绕动涡卷内还设有一单向阀,该单向阀所处的通道与所述气道贯通,所述单向阀的阀头指向所述气道,所述单向阀能够随与所述气道相连通的所述密封气室的压力的升高而打开。
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