发明名称 含耐溶剂性聚(乙烯醇缩醛)的辐射敏感性组合物和元件
摘要 辐射敏感性组合物可以用来制备具有改进的耐溶剂性的正性工作可成像元件并且可用于制造平版印刷版。所述组合物包括碱可溶性聚合物粘结剂和辐射吸收性化合物,该碱可溶性聚合物粘结剂是显示改进的耐印刷化学品性的特定聚(乙烯醇缩醛)。
申请公布号 CN101689023B 申请公布日期 2013.04.10
申请号 CN200880022552.5 申请日期 2008.06.13
申请人 伊斯曼柯达公司 发明人 M·莱瓦农;E·卢里;V·坎佩尔
分类号 G03F7/033(2006.01)I;B41C1/10(2006.01)I;B41M5/36(2006.01)I 主分类号 G03F7/033(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 赵苏林;韦欣华
主权项 1.一种辐射敏感性组合物,包含:a.碱可溶性聚合物粘结剂,和b.辐射吸收性化合物,所述碱可溶性聚合物粘结剂是聚(乙烯醇缩醛),其包含由以下结构(Ia)表示的重复单元:<img file="FSB00000974618900011.GIF" wi="495" he="435" />由以下结构(Ib)表示的重复单元:<img file="FSB00000974618900012.GIF" wi="703" he="486" />由以下结构(Id)和(Ie)之一或两者表示的重复单元:<img file="FSB00000974618900021.GIF" wi="524" he="831" />R和R′独立地是氢或甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、氯代甲基、三氯代甲基、异丙基、异丁基、叔丁基、异戊基、新戊基、1-甲基丁基和异己基、环丙基、环丁基、环戊基、甲基环己基和环己基,或卤基,R1是未取代的苯酚基、选自至多三个如下基团取代的苯酚基:羟基、甲氧基、烷氧基、芳氧基、硫代芳氧基、卤甲基、三卤甲基、卤基、硝基、偶氮、硫代羟基、硫代烷氧基、氰基、氨基、羧基、乙烯基、羧基烷基、苯基、烷基、烯基、炔基、环烷基、芳基、杂芳基和杂脂环族基;未取代的萘酚基、选自至多三个如下基团取代的萘酚基:羟基、甲氧基、烷氧基、芳氧基、硫代芳氧基、卤甲基、三卤甲基、卤基、硝基、偶氮、硫代羟基、硫代烷氧基、氰基、氨基、羧基、乙烯基、羧基烷基、苯基、烷基、烯基、炔基、环烷基、芳基、杂芳基和杂脂环族基;未取代的蒽酚基、或选自至多三个如下基团取代的蒽酚基:羟基、甲氧基、烷氧基、芳氧基、硫代芳氧基、卤甲基、三卤甲基、卤基、硝基、偶氮、硫代羟基、硫代烷氧基、氰基、氨基、羧基、乙烯基、羧基烷基、苯基、烷基、烯基、炔基、环烷基、芳基、杂芳基和杂脂环族基,R2是未取代的萘酚基或选自至多三个如下基团取代的萘酚基:羟基、甲氧基、烷氧基、芳氧基、硫代芳氧基、卤甲基、三卤甲基、卤基、硝基、偶氮、硫代羟基、硫代烷氧基、氰基、氨基、羧基、乙烯基、羧基烷基、苯基、烷基、烯基、炔基、环烷基、芳基、杂芳基和杂脂环族基,但是不同于R<sup>1</sup>,R<sup>7</sup>是以下基团:<img file="FSB00000974618900031.GIF" wi="380" he="446" />其中X是直接单键或-O-CH<sub>2</sub>-基,结构(Ia)重复单元以至少20mol%的量存在,结构(Ib)重复单元以至少10mol%的量存在,和结构(Id)和(Ie)重复单元之一或两者以2-25mol%的量存在,以及所述辐射敏感性组合物还包含显影性增强组合物。
地址 美国纽约州