发明名称 |
一种查找缺陷掩膜版的方法 |
摘要 |
本发明涉及半导体芯片制造领域,特别涉及一种查找缺陷掩膜版的方法。该方法包括:从需要曝光的掩膜版中,选取至少一层掩膜版;确定选取的掩膜版对应的shot,其中,选取的每层掩膜版对应不同的shot;针对每一个shot,将该shot对应的掩膜版上的指定区域曝光到该shot的整个区域上,以及将除该shot对应的掩膜版之外的其他各个掩膜版的整个区域叠加曝光到该shot的整个区域上;对每个shot进行良率测试得到每个shot的待验证良率值,并根据每个shot的待验证良率值,确定每个shot对应的掩膜版是否有缺陷。通过本发明实施例中提供的方法,提高了查找缺陷掩膜版的效率,缩短耗时,节省经济成本。 |
申请公布号 |
CN102253595B |
申请公布日期 |
2013.04.10 |
申请号 |
CN201010184628.3 |
申请日期 |
2010.05.20 |
申请人 |
北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司 |
发明人 |
马万里;赵文魁 |
分类号 |
G03F1/84(2012.01)I |
主分类号 |
G03F1/84(2012.01)I |
代理机构 |
北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 |
代理人 |
黄志华 |
主权项 |
一种查找缺陷掩膜版的方法,其特征在于,包括:从需要曝光的掩膜版中,选取至少一层掩膜版;确定选取的所述掩膜版对应的曝光场shot,其中,选取的每层所述掩膜版对应不同的shot;针对每一个shot,将该shot对应的掩膜版上的指定区域曝光到该shot的整个区域上,以及将除该shot对应的掩膜版之外的其他各个掩膜版的整个区域叠加曝光到该shot的整个区域上;对每个所述shot进行良率测试得到每个所述shot的待验证良率值,并根据每个所述shot的待验证良率值,确定每个所述shot对应的所述掩膜版是否有缺陷,其中,所述待验证良率值是指所述shot中无缺陷的芯片die占所述shot中所有die的比例。 |
地址 |
100871 北京市海淀区成府路298号方正大厦9层 |