镀膜装置

摘要

一种镀膜装置，包括一个镀膜腔室，该镀膜腔室经排气管与真空泵相连，在该镀膜腔室的上方中轴位置通过旋转轴支撑的绕该旋转轴转动的用于固定镀膜基板的伞状的基板支架，在所述的基板支架下方的镀膜腔室分立地设有第一蒸发源、第一遮挡板、离子源、离子源遮挡板，所述的第一蒸发源蒸发的镀膜材料通过第一遮挡板定向地射向所述的基板支架的镀膜基板，所述的离子源发出的离子通过所述的离子源遮挡板定向地射向所述的基板支架的镀膜基板，镀膜基板是固定在所述的基板支架上且镀膜面朝向所述的蒸发源和离子源。本实用新型在离子辅助方式的镀膜方法中，通过离子辅助提高形成的薄膜的致密化效果。

主权项

一种镀膜装置，其特征在于，该装置包括一个镀膜腔室（10），该镀膜腔室（10）经排气管（11）与真空泵（12）相连，在该镀膜腔室的上方中轴位置通过旋转轴支撑的绕该旋转轴转动的用于固定镀膜基板的伞状的基板支架（20），在所述的基板支架（20）下方的镀膜腔室分立地设有第一蒸发源（30）、第一遮挡板（31）、离子源（32）、离子源遮挡板（33），所述的第一蒸发源（30）蒸发的镀膜材料通过第一遮挡板（31）定向地射向所述的基板支架（20）的镀膜基板，所述的离子源（32）发出的离子通过所述的离子源遮挡板（33）定向地射向所述的基板支架（20）的镀膜基板，镀膜基板是固定在所述的基板支架（20）上且镀膜面朝向所述的蒸发源和离子源。