发明名称 横向堆叠超级接面功率半导体装置
摘要 本发明公开了一种横向堆叠超级接面功率半导体装置,包括一半导体基底;一外延堆叠结构,设于半导体基底上,外延堆叠结构包括至少一第一外延层,具有一第二导电型,及至少一第二外延层,具有第一导电型;一漏极结构,嵌入于外延堆叠结构中,且漏极结构沿着一第一方向延伸;多个栅极结构,嵌入外延堆叠结构中,并且断续的沿着第一方向延伸;一源极结构,设于多个栅极结构间;及一离子井,具有第一导电型,包围住源极结构。
申请公布号 CN103035668A 申请公布日期 2013.04.10
申请号 CN201110405160.0 申请日期 2011.12.07
申请人 茂达电子股份有限公司 发明人 林永发;徐守一;吴孟韦;张家豪
分类号 H01L29/06(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I 主分类号 H01L29/06(2006.01)I
代理机构 北京市浩天知识产权代理事务所 11276 代理人 刘云贵
主权项 一种横向堆叠超级接面功率半导体装置,其特征在于包括:一半导体基底,具有一第一导电型;一外延堆叠结构,设于所述半导体基底上,所述外延堆叠结构包括至少一第一外延层,具有一第二导电型,及至少一第二外延层,具有所述第一导电型;一漏极结构,嵌入于所述外延堆叠结构中,且所述漏极结构沿着一第一方向延伸;多个栅极结构,嵌入所述外延堆叠结构中,并且断续的沿着所述第一方向延伸;一源极结构,设于所述多个栅极结构间;及一离子井,具有所述第一导电型,包围住所述源极结构。
地址 中国台湾新竹