发明名称 |
横向堆叠超级接面功率半导体装置 |
摘要 |
本发明公开了一种横向堆叠超级接面功率半导体装置,包括一半导体基底;一外延堆叠结构,设于半导体基底上,外延堆叠结构包括至少一第一外延层,具有一第二导电型,及至少一第二外延层,具有第一导电型;一漏极结构,嵌入于外延堆叠结构中,且漏极结构沿着一第一方向延伸;多个栅极结构,嵌入外延堆叠结构中,并且断续的沿着第一方向延伸;一源极结构,设于多个栅极结构间;及一离子井,具有第一导电型,包围住源极结构。 |
申请公布号 |
CN103035668A |
申请公布日期 |
2013.04.10 |
申请号 |
CN201110405160.0 |
申请日期 |
2011.12.07 |
申请人 |
茂达电子股份有限公司 |
发明人 |
林永发;徐守一;吴孟韦;张家豪 |
分类号 |
H01L29/06(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/06(2006.01)I |
代理机构 |
北京市浩天知识产权代理事务所 11276 |
代理人 |
刘云贵 |
主权项 |
一种横向堆叠超级接面功率半导体装置,其特征在于包括:一半导体基底,具有一第一导电型;一外延堆叠结构,设于所述半导体基底上,所述外延堆叠结构包括至少一第一外延层,具有一第二导电型,及至少一第二外延层,具有所述第一导电型;一漏极结构,嵌入于所述外延堆叠结构中,且所述漏极结构沿着一第一方向延伸;多个栅极结构,嵌入所述外延堆叠结构中,并且断续的沿着所述第一方向延伸;一源极结构,设于所述多个栅极结构间;及一离子井,具有所述第一导电型,包围住所述源极结构。 |
地址 |
中国台湾新竹 |