发明名称 双向自动研磨抛光设备
摘要 本实用新型公开一种双向自动研磨抛光设备,用于对试样进行研磨抛光前处理,其包括:安装座、固定装置及转盘,转盘转动的装设于安装座上,固定装置包括基座、第一驱动装置、第二驱动装置、以及与第二驱动装置连接的夹紧机构,基座装设于安装座上,第一驱动装置安设在基座上做升、降驱动,第二驱动装置及夹紧机构安设于与基座呈自由转动连接的连接板上,试样由所述夹紧机构夹紧固定,第一驱动装置驱动夹紧机构带动试样接近或远离转盘,转盘对试样进行研磨抛光前处理。本实用新型双向自动研磨抛光设备,构造简单、操作简便、占用空间小、安全稳定、自动研磨抛光,提高制备试样的效率和合格性,并提高自动研磨抛光设备的实用性。
申请公布号 CN202861978U 申请公布日期 2013.04.10
申请号 CN201220355083.2 申请日期 2012.07.21
申请人 深圳市华测检测技术股份有限公司 发明人 苏康生;陈军;李波;朱平;郭冰
分类号 B24B37/00(2012.01)I;B24B37/27(2012.01)I;B24B37/34(2012.01)I;B24B47/00(2006.01)I 主分类号 B24B37/00(2012.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种双向自动研磨抛光设备,其特征在于,包括:安装座、固定装置及转盘,所述转盘转动的装设于所述安装座上,所述固定装置包括基座、第一驱动装置、第二驱动装置、以及与所述第二驱动装置连接的夹紧机构,所述基座装设于所述安装座上,所述第一驱动装置安设在所述基座上做升、降驱动,所述第二驱动装置及夹紧机构安设于与基座呈自由转动连接的连接板上,试样由所述夹紧机构夹紧固定,所述第一驱动装置驱动所述夹紧机构带动试样接近或远离所述转盘,所述转盘对试样进行研磨抛光前处理。
地址 518057 广东省深圳市宝安区70区鸿威工业园C栋