发明名称 |
一种研磨垫及利用该研磨垫进行研磨时的损耗检测方法 |
摘要 |
本发明涉及半导体制造领域,尤其涉及一种研磨垫及利用该研磨垫进行研磨时的损耗检测方法。本发明通过在设置有研磨沟槽的研磨垫上预设多个检测斜孔,在进行研磨工艺中需要对研磨垫损耗进行检测时,通过测量进行研磨工艺后的研磨垫上检测斜孔与沟槽之间的距离,并针对该沟槽利用预先设定数值及公式,计算出该研磨垫在该检测斜孔处的磨损情况,并继续对其他各个检测斜孔进行相同的工艺步骤,以能实时的检测该研磨垫在研磨工艺中表面全部位的磨损情况,进而达到充分利用该研磨垫的目的,以降低研磨工艺成本。 |
申请公布号 |
CN103029035A |
申请公布日期 |
2013.04.10 |
申请号 |
CN201210493978.7 |
申请日期 |
2012.11.28 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
邓镭 |
分类号 |
B24B37/26(2012.01)I;G01B21/08(2006.01)I |
主分类号 |
B24B37/26(2012.01)I |
代理机构 |
上海申新律师事务所 31272 |
代理人 |
竺路玲 |
主权项 |
一种研磨垫,所述研磨垫上设置有研磨沟槽,其特征在于,所述研磨垫还设置有多个检测斜孔。 |
地址 |
201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 |