一种可实时数据处理的原子层沉积设备

摘要

本发明涉及一种半导体工艺设备，尤其是涉及一种可实时数据处理的原子层沉积设备。所述原子层沉积设备，包括真空部件、加热部件、气路部件、等离子体产生部件和控制部件；所述控制部件包括计算机和数据处理模块；所述计算机与所述数据处理模块连接，所述数据处理模块分别与所述真空部件、加热部件、气路部件、等离子体产生部件连接。本发明通过采用计算机和数据处理模块，提高了原子层沉积设备的处理速度，减少设备故障，使得整个设备结构简洁清晰，各个部件之间的关系变得简单，便于组装、生产和维护。

主权项

一种可实时数据处理的原子层沉积设备，包括真空部件、加热部件、气路部件、等离子体产生部件和控制部件，其特征在于：所述控制部件包括计算机和数据处理模块；所述计算机与所述数据处理模块连接，所述数据处理模块分别与所述真空部件、加热部件、气路部件、等离子体产生部件连接；其中，所述计算机，用于显示系统操作界面、接收外部命令、显示系统各部件运行中的参数，向数据处理模块发送运行指令和数据和对所述设备其它部件进行控制，并从数据处理模块接收指令数据，对接收到的指令数据进行分析；所述数据处理模块，用于对所述真空部件、加热部件、气路部件、等离子体产生部件发送的数据进行处理。