| 发明名称 | 具有定深比台阶槽端面密封环的机械密封装置 | ||
| 摘要 | 具有定深比台阶槽端面密封环的机械密封装置，包括可随旋转轴转动的旋转环和固定于静止环座上的静止环，其轴向相对的端面为密封端面，至少在其中一侧密封端面上开设有经具有端平面高度的相同形式隔离部分隔成均匀排布的浅槽。各浅槽的槽底由至少两个递次加深的台阶构成，各台阶与其相邻上一台阶间的高度距离和其台阶面至密封端面的深度距离应满足关系式(ti+C0)/(hi)＝m，式中的C0为密封环工作时密封端面的流体膜厚度，取值范围0~0.03毫米，m为定比值系数，取值范围1.7~2.0。相对于平底槽和斜底槽，本实用新型结构的机械密封装置在工作时，可具有更加显著的端面流体动压效应，并具有更大的承载能力和流体膜刚度。 | ||
| 申请公布号 | CN202867843U | 申请公布日期 | 2013.04.10 |
| 申请号 | CN201220592752.8 | 申请日期 | 2012.11.12 |
| 申请人 | 西华大学 | 发明人 | 王和顺;朱维兵;董霖;王良柱;牛苗苗;邬瓦尼;李珂;郑建科;秦小屿;陈华;汪勇;徐红;黎玉彪;陈坤 |
| 分类号 | F16J15/16(2006.01)I;F16J15/54(2006.01)I | 主分类号 | F16J15/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 成都立信专利事务所有限公司 51100 | 代理人 | 濮家蔚 |
| 主权项 | 具有定深比台阶槽端面密封环的机械密封装置，包括可随旋转轴（15）转动的旋转环（2）和固定于静止环座（3）上的静止环（1），其轴向相对的端面为密封端面，至少在其中一侧密封端面上开设有经具有端平面高度的相同形式隔离部（12）分隔成均匀排布的浅槽（11），其特征是各浅槽（11）的槽底由至少两个递次加深的台阶（13）构成，各台阶与其相邻上一台阶间的高度距离（hi）和其台阶面至密封端面的深度距离（ti）应满足关系式：(ti+C0)/(hi)＝m，式中的C0为密封环工作时密封端面的流体膜厚度，取值范围0~0.03毫米，m为定比值系数，取值范围1.7~2.0。 | ||
| 地址 | 610039 四川省成都市金牛区土桥金周路999号 | ||