真空处理装置

摘要

公开了一种真空处理装置，其能够实现关于例如用于液晶显示器(LCD)面板的玻璃基片的基片的真空处理(例如蚀刻处理和沉积处理)。该真空处理装置包括具有处理空间的真空室；具有矩形形状，且安装于该真空室内的基片支承单元，用于支承基片；安装于该基片支承单元的上表面上的静电吸盘；以及至少一个用于覆盖该静电吸盘的边缘的防护元件，其中，由该静电吸盘和防护元件组成的基片支承表面的顶点通过支承表面延伸单元向该真空室的内壁延伸。因此，可以防止发生于基片的顶点的边缘效应，从而提高基片上的蚀刻率或沉积率的一致性。

主权项

一种真空处理装置，包括：具有处理空间的真空室；基片支承单元，具有矩形形状，且安装于所述真空室内，用于支承基片；静电吸盘，安装于所述基片支承单元的上表面；以及至少一个防护元件，用于覆盖所述静电吸盘的边缘；其中，由所述静电吸盘和所述防护元件组成的基片支承表面的顶点通过支承表面延伸单元向所述真空室的内壁延伸。