| 发明名称 | X射线校准装置 | ||
| 摘要 | 本发明名称为“X射线校准装置”。一种X射线校准装置(300)包括芯(302)，芯(302)包括具有第一X射线衰减系数的第一材料。芯(302)定义腔体(306)，腔体(306)配置成接纳不同X射线衰减系数的填料以便改变X射线校准装置(300)的X射线衰减系数。X射线校准装置(300)还包括至少部分地围绕芯(302)的外层(304)。外层(304)包括具有第二X射线衰减系数的第二材料，其中第二X射线衰减系数低于第一X射线衰减系数。 | ||
| 申请公布号 | CN103027700A | 申请公布日期 | 2013.04.10 |
| 申请号 | CN201210368369.9 | 申请日期 | 2012.09.28 |
| 申请人 | 通用电气公司 | 发明人 | R.K.佩恩;D.L.埃尔冈;W.K.沃克 |
| 分类号 | A61B6/00(2006.01)I | 主分类号 | A61B6/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 姜甜;朱海煜 |
| 主权项 | 一种x射线校准装置(300)，包括：芯(302)，其包含具有第一x射线衰减系数的第一材料，所述芯(302)定义腔体(306)，所述腔体配置成接纳不同x射线衰减系数的填料(350)以便改变所述x射线校准装置(300)的x射线衰减系数；以及外层(304)，其至少部分地围绕所述芯(302)，所述外层(304)包括具有第二x射线衰减系数的第二材料，其中所述第二x射线衰减系数低于所述第一x射线衰减系数。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||