发明名称 位线合并的增益单元eDRAM单元及存储器
摘要 本发明属于动态随机存储器(DRAM)技术领域,具体为一种位线合并的增益单元eDRAM单元及存储器。本发明提供的增益单元eDRAM单元包括读MOS晶体管、写MOS晶体管、写字线、读字线、等效寄生电容以及一条位线,使用该条位线代替现有技术增益单元eDRAM单元的写位线和读位线,由于只包括一条位线,具有单元面积小的特点,并且在写位线和读位线合并后不影响增益单元eDRAM单元的存储特性。使用增益单元eDRAM单元的增益单元eDRAM具有存储密度相对高的特点。
申请公布号 CN101908370B 申请公布日期 2013.04.10
申请号 CN200910052482.4 申请日期 2009.06.04
申请人 复旦大学 发明人 林殷茵;薛晓勇
分类号 G11C11/401(2006.01)I;G11C11/409(2006.01)I;G11C11/4063(2006.01)I 主分类号 G11C11/401(2006.01)I
代理机构 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人 陆飞;盛志范
主权项 一种增益单元eDRAM单元的读操作方法,该增益单元eDRAM单元包括读MOS晶体管、写MOS晶体管、写字线、读字线以及等效寄生电容,写MOS晶体管的栅极连接于所述写字线,并且还包括一条位线,写MOS晶体管的漏端/源端连接于所述位线,写MOS晶体管的源端/漏端连接于所述等效寄生电容的存储电荷端,读MOS晶体管的栅极连接于所述等效寄生电容的存储电荷端,读MOS晶体管的漏端/源端连接于所述位线,读MOS晶体管的源端/漏端连接于读字线;其中,所述读MOS晶体管和写MOS晶体管为NMOS晶体管,所述等效寄生电容是写MOS晶体管的有源区寄生电容和/或者读MOS晶体管的栅电容;其特征在于,对所述的增益单元eDRAM单元读数据“0”时,写字线和读字线的电压置0伏,位线的电压先预充电至Vdd,在读MOS晶体管关断条件下,位线不放电,位线的电压维持在Vdd;对所述的增益单元eDRAM单元读数据“1”时,写字线和读字线的电压置0伏,位线的电压先预充电至Vdd,由于读MOS晶体管导通,位线通过读MOS晶体管放电,在读MOS晶体管组成的读出放大电路的钳位作用下,位线的电位下降至(Vdd‑ΔV2)伏;其中,Vdd是指标准电源电压,ΔV2是指读“1”时指位线电压的下降量,其等于NMOS晶体管的阈值电压。
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