发明名称 一种检测三氯氢硅纯度的方法及装置
摘要 本发明提供一种检测三氯氢硅纯度的方法及装置,方法包括(1)、将TCS储液罐中的TCS通过压力差压入缓冲罐,再从缓冲罐通过压力差压入反应罐;(2)、TCS在反应罐中与预先加入的水反应,使TCS与水反应生成硅化物和盐酸,同时TCS含有的金属杂质与氯离子反应生成金属氯化物;(3)、提取反应罐内的生成物后,用设备电感耦合等离子质谱进行分析,得到氯和金属的量,由氯换算成TCS的量,并计算出三氯氢硅的纯度。本发明的优点是:达到快速检验,装置取样简单,同时利用半导体厂现有的金属检验设备如ICP-MS(电感耦合等离子质谱),避免了因劣质三氯氢硅污染设备而造成经济损失,且设备的利用率大大增加。
申请公布号 CN101706473B 申请公布日期 2013.04.10
申请号 CN200910242233.1 申请日期 2009.12.04
申请人 有研半导体材料股份有限公司 发明人 冯泉林;何自强;闫志瑞;库黎明;索思卓;葛钟;常青
分类号 G01N27/64(2006.01)I 主分类号 G01N27/64(2006.01)I
代理机构 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人 郭佩兰
主权项 一种检测三氯氢硅纯度的方法,其特征在于:它包括以下几个步骤:(1)、将TCS储液罐中的TCS通过压力差压入缓冲罐,再从缓冲罐通过压力差压入反应罐;(2)、TCS在反应罐中与预先加入的水反应,使TCS与水反应生成硅化物和盐酸,同时TCS含有的金属杂质与氯离子反应生成金属氯化物;(3)、提取反应罐内的生成物后,用设备电感耦合等离子质谱进行分析,得到氯和金属的量,由氯换算成TCS的量,并计算出三氯氢硅的纯度。
地址 100088 北京市新街口外大街2号
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