发明名称 |
一种检测三氯氢硅纯度的方法及装置 |
摘要 |
本发明提供一种检测三氯氢硅纯度的方法及装置,方法包括(1)、将TCS储液罐中的TCS通过压力差压入缓冲罐,再从缓冲罐通过压力差压入反应罐;(2)、TCS在反应罐中与预先加入的水反应,使TCS与水反应生成硅化物和盐酸,同时TCS含有的金属杂质与氯离子反应生成金属氯化物;(3)、提取反应罐内的生成物后,用设备电感耦合等离子质谱进行分析,得到氯和金属的量,由氯换算成TCS的量,并计算出三氯氢硅的纯度。本发明的优点是:达到快速检验,装置取样简单,同时利用半导体厂现有的金属检验设备如ICP-MS(电感耦合等离子质谱),避免了因劣质三氯氢硅污染设备而造成经济损失,且设备的利用率大大增加。 |
申请公布号 |
CN101706473B |
申请公布日期 |
2013.04.10 |
申请号 |
CN200910242233.1 |
申请日期 |
2009.12.04 |
申请人 |
有研半导体材料股份有限公司 |
发明人 |
冯泉林;何自强;闫志瑞;库黎明;索思卓;葛钟;常青 |
分类号 |
G01N27/64(2006.01)I |
主分类号 |
G01N27/64(2006.01)I |
代理机构 |
北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 |
代理人 |
郭佩兰 |
主权项 |
一种检测三氯氢硅纯度的方法,其特征在于:它包括以下几个步骤:(1)、将TCS储液罐中的TCS通过压力差压入缓冲罐,再从缓冲罐通过压力差压入反应罐;(2)、TCS在反应罐中与预先加入的水反应,使TCS与水反应生成硅化物和盐酸,同时TCS含有的金属杂质与氯离子反应生成金属氯化物;(3)、提取反应罐内的生成物后,用设备电感耦合等离子质谱进行分析,得到氯和金属的量,由氯换算成TCS的量,并计算出三氯氢硅的纯度。 |
地址 |
100088 北京市新街口外大街2号 |