发明名称 一种氧化铝太阳电池减反膜的制备方法
摘要 本发明提出一种氧化铝太阳电池减反膜的制备方法,以单晶硅Si(100晶相)为衬底,利用磁控溅射技术通过控制O2分压和腔室压强,溅射的Al在腔室中氧化得到高折射率、低吸收系数的Al2O3减反膜。通过调控氧气比例,可以在室温下直接溅射制备得Al2O3减反膜,能耗低,有利于节能减排。制备的Al2O3膜,在波长为300nm~1100nm区间内,透过率为85%~92%,折射率为1.57~1.76。
申请公布号 CN103035783A 申请公布日期 2013.04.10
申请号 CN201310016883.0 申请日期 2013.01.17
申请人 云南师范大学 发明人 杨雯;段良飞;杨培志;张力元;自兴发;冷天久
分类号 H01L31/18(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I 主分类号 H01L31/18(2006.01)I
代理机构 昆明慧翔专利事务所 53112 代理人 程韵波;邓丽春
主权项 一种氧化铝太阳电池减反膜的制备方法, 对单晶硅Si衬底进行超声清洗,将磁控溅射腔抽真空;通入Ar气和O2气,采用Al靶材,溅射制备Al2O3太阳电池减反膜,其特征在于:其按以下步骤实施,1)、 依次使用丙酮、无水乙醇和去离子水对单晶硅Si(100晶项)衬底进行超声清洗5min~10min;将磁控溅射镀膜仪的腔室真空抽至≤6.0×10‑6pa;2)、 通入Ar气和O2气,工作压强为1.0pa~2.0pa, O2气占Ar气和O2气的总体积比10~35%, 采用纯度为99.99%的Al靶材,以30W~60W的溅射功率在单晶硅Si(100)衬底上溅射Al膜, Al膜在腔室中氧化得到Al2O3减反膜。
地址 650092 云南省昆明市一二·一大街298号云南师范大学太阳能所