发明名称 强制均温和半导体制冷片调温的惯性仪表测试用温控仪
摘要 强制均温和半导体制冷片调温的惯性仪表测试用温控仪,包括温度控制器(100)、控制和功率放大电路(200)、恒温容器(300)和温度传感器(400),恒温容器(300)又包括调温元件和均温体(304)。调温元件安装于恒温容器(300)外,利用容器外壳初步均温。采用均温体(304)包容被测对象达到二次均温。控制调温元件的电流形成恒温容器(300)上下部分温度的微小差别,促成恒温容器(300)内介质的上下流动,同时在介质上下流动的路径中设置水平放置的挡流片(308),使介质旋转,加强传导与对流。本发明结构紧凑,具有使被测对象温度均匀,反应快,调温功率小,控温度精度高,通过电源产生的干扰小的优点。
申请公布号 CN103034265A 申请公布日期 2013.04.10
申请号 CN201210535030.3 申请日期 2012.12.11
申请人 北京兴华机械厂 发明人 张传根;姚竹贤
分类号 G05D23/30(2006.01)I 主分类号 G05D23/30(2006.01)I
代理机构 中国航天科技专利中心 11009 代理人 安丽
主权项 强制均温和半导体制冷片调温的惯性仪表测试用温控仪,其特征在于:包括温度控制器(100)、控制和功率放大电路(200)、恒温容器(300)和温度传感器(400),温度传感器(400)和被测对象(307)置于恒温容器(300)内部,温度传感器(400)实时采集被测对象(307)的温度送至温度控制器(100),温度控制器(100)将被测对象(307)的实际温度与预设的温度值进行比较,产生对被测对象(307)进行加热或者制冷的控温信号,控制和功率放大电路(200)对所述的控温信号进行滤波放大后送至恒温容器(300),对恒温容器(300)的温度进行调节,使得被测对象(307)的温度与预设的温度值相同;所述的恒温容器(300)包括恒温槽体(301)、恒温槽盖(302)、安装架(303)、均温体(304)、半导体制冷片(305)、定位支架(306)、档流片(308)、介质(317);半导体制冷片(305)的热端粘贴在恒温槽体(301)和恒温槽盖(302)的外表面上,温度传感器(400)固定在安装架(303)上并位于恒温槽体(301)的中心,档流片(308)位于温度传感器(400)的周围并固定在安装架(303)上,被测对象(307)固定在安装架(303)上档流片(308)的外围;安装架(303)和均温体(304)固定于定位支架(306)上,定位支架(306)固定于恒温槽体(301)内腔的底部,恒温槽盖(302)扣接在恒温槽体(301)的上方并与恒温槽体(301)一起构成密封的腔体,介质(317)充满所述的腔体;安装在恒温槽盖(302)上的半导体制冷片(305)内通过的电流和安装在恒温槽体(301)底部的半导体制冷片(305)内通过的电流有差异,促成介质(317)在所述密封的腔体内上下流动;通过半导体制冷片(305)对控温信号进行响应,调节恒温槽体(301)内的温度,通过恒温槽体(301)和恒温槽盖(302)进行首次均温,再经均温体(304)进行二次均温,由介质(317)在恒温容器(300)内的流动对被测对象(307)再次进行均温。
地址 100854 北京市海淀区永定路50号
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