发明名称 一种带有浸液回收装置的光刻机硅片台双台交换系统
摘要 一种带有浸液回收装置的光刻机双台交换系统,该系统含有基台,两个硅片台,光学透镜系统、多轴激光干涉仪和激光干涉仪反射镜。硅片台带有浸液回收装置,硅片台上表面的一侧设有一块浸液回收板,浸液回收板的上表面与硅片台上表面共面,浸液回收板的侧面有一排小孔,小孔与硅片台外部的浸液回收容器相连接,用于浸没液体的回收,硅片台外围四边设置一套防撞气囊装置。当两硅片台完成交换时,硅片台上的浸液回收板设计保证了交换时浸液循环不用中断,提高了生产效率;气囊式防撞结构具有可伸缩性,与机械式防撞相比刚度低,且结构简单紧凑,可应用于光刻机双台交换系统。
申请公布号 CN103034074A 申请公布日期 2013.04.10
申请号 CN201210576850.7 申请日期 2012.12.26
申请人 清华大学 发明人 张鸣;朱煜;成荣;徐登峰;刘召;王婧;田丽;杨开明;胡金春;尹文生;穆海华;刘昊;胡楚雄
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人 邸更岩
主权项 一种带有浸液回收装置的光刻机硅片台双台交换系统,该系统含有基座(7),两个硅片台,两个线缆台,光学透镜系统(2)和光刻浸液喷射循环装置(3),所述的光刻浸液喷射循环装置包括浸没液体(6)、浸液流出机构(4)和浸液吸收机构(5);所述的基座(7)上设有对准工位和曝光工位,所述的硅片台上部的四个侧面均为平面反射镜,其中两个相对反射镜面下半部分还分别安装有一条45°反射镜,所述的每个硅片台的一个侧面下部安装一个线缆台,所述的线缆台沿X轴方向放置在基座(7)上,其特征在于:在所述的其中一个硅片台上安装一个浸液回收装置,所述的浸液回收装置包括一个浸液过渡板(15)、导液管、浸液回收容器(14)和抽吸泵(13);所述的浸液过渡板(15)安装在两个硅片台任意一个上,且与线缆台相对布置,浸液过渡板(15)的上表面与硅片台上表面共面,浸液过渡板(15)上表面平滑并喷涂有不浸润涂层;所述的浸液过渡板(15)的侧面设有一排小孔,小孔与导液管连通,导液管经过线缆台与外部的抽吸泵和浸液回收容器相连通。
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