基片处理装置及为此使用的覆盖构件

摘要

本发明公开了一种基片处理装置，更具体而言是一种能够执行诸如基片蚀刻的基片处理的基片处理装置及其覆盖构件。该基片处理装置包括：处理室，所述处理室形成用于基片处理的处理空间；基片支撑板，所述基片支撑板具有下部电极，并构造成在其上直接或者通过托盘固定一个或者多个基片；覆盖构件，所述覆盖构件具有沿向上和向下方向以贯通形式形成的多个开口，并构造成覆盖基片；以及一个或者更多个向下变形阻止构件，所述向下变形阻止构件安装在覆盖构件和基片支撑板之间，用于维持覆盖构件的底面与基片支撑板之间的距离。

主权项

一种基片处理装置，包括：处理室，其形成用于基片处理的处理空间；基片支撑板，其具有下部电极，并构造成在其上直接或者通过托盘装配一个或者更多个基片；覆盖构件，其具有沿向上和向下方向贯通地形成的多个开口，并构造成覆盖所述基片；以及一个或者更多个向下变形阻止构件，其安装在所述覆盖构件和所述基片支撑板之间，用于维持所述覆盖构件的底面与所述基片支撑板之间的距离；其中，所述覆盖构件包括：覆盖部分，其具有多个开口；以及至少一个支撑部分，其形成于所述覆盖部分的边缘，从而使所述覆盖部分与装配在所述托盘或者所述基片支撑板上的所述基片以预定距离间隔开。