发明名称 一种安全性高的原子层沉积设备
摘要 本发明涉及一种半导体工艺设备,尤其是涉及一种安全性高的原子层沉积设备。所述原子层沉积设备,包括真空部件、加热部件、气路部件、等离子体产生部件和控制部件;控制部件包括触摸屏、工控机和数据处理模块;触摸屏与所述工控机连接,工控机与数据处理模块连接,数据处理模块分别与真空部件、加热部件、气路部件、等离子体产生部件连接。本发明通过采用触摸屏、工控机和数据处理模块取代计算机作为控制器件,使得整个设备结构简洁清晰,便于组装、生产和维护,能够有效防止意外事故对设备的损坏。
申请公布号 CN103031532A 申请公布日期 2013.04.10
申请号 CN201110300052.7 申请日期 2011.09.29
申请人 中国科学院微电子研究所 发明人 王燕;李勇滔;夏洋;赵章琰;石莎莉
分类号 C23C16/44(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I 主分类号 C23C16/44(2006.01)I
代理机构 北京市德权律师事务所 11302 代理人 刘丽君
主权项 一种安全性高的原子层沉积设备,包括真空部件、加热部件、气路部件、等离子体产生部件和控制部件,其特征在于:所述控制部件包括触摸屏、工控机和数据处理模块;所述触摸屏与所述工控机连接,所述工控机与所述数据处理模块连接,所述数据处理模块分别与所述真空部件、加热部件、气路部件、等离子体产生部件连接;其中,所述触摸屏,用于显示系统操作界面、接收外部命令、显示设备各部件运行中的参数;所述工控机,用于向数据处理模块发送运行指令和数据和对设备其它部件进行控制,并从数据处理模块接收指令数据,对接收到的指令数据进行分析;所述数据处理模块,用于对所述真空部件、加热部件、气路部件、等离子体产生部件发送的数据进行处理。
地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号
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