发明名称 Photosensitive polymer and photoresist composition including the same
摘要
申请公布号 KR101253272(B1) 申请公布日期 2013.04.10
申请号 KR20050074443 申请日期 2005.08.12
申请人 发明人
分类号 G03F7/004;G03F7/039 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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