Verfahren zur Herstellung einer Leistungshalbleiteranordnung

摘要

Bei einem Verfahren zur Herstellung einer Leistungshalbleiteranordnung wird ein dielektrischer Isolationsträger (20) mit einer Oberseite (20t) und einer auf der Oberseite (20t) angeordneten oberen Metallisierungsschicht (21) bereitgestellt. Ebenso bereitgestellt werden ein Halbleiterchip (1) und wenigstens ein elektrisch leitender Kontaktpin (3), wobei jeder Kontaktpin (3) ein erstes Ende (31) und ein dem ersten Ende (31) entgegengesetztes zweites Ende (32) aufweist. Der Halbleiterchip (1) wird durch Sintern oder Diffusionslöten mit der oberen Metallisierungsschicht (21) verbunden. Zwischen dem ersten Ende (31) und der oberen Metallisierungsschicht (21) Material des Kontaktpins (3) in direkten physischen Kontakt mit dem Material der oberen Metallisierungsschicht (31) gebracht wird.