| 摘要 |
Es wird bereit gestellt ein Substrathalter zur Aufnahme eines Substrates aufweisend–ein Basiselement,–zumindest drei Kontaktelemente,–die mit dem Basiselement verbunden sind, und–die in einer Ebene angeordnet sind,–wobei das Substrat bei Aufnahme durch den Substrathalter auf den zumindest drei Kontaktelementen liegen kann,–wobei das Kontaktelement derart mit dem Basiselement verbunden ist, dass durch zumindest ein Kontaktelement in Richtung der Ebene auf das Substrat wirkende Kräfte minimiert werden. Weiterhin wird eine Positionsmessvorrichtung zur Ermittlung eines Platzierungsfehlers eines Strukturelements auf einer Maske bereitgestellt, welche einen Substrathalter aufweist, welcher die auf ein Substrat wirkenden Kräfte minimiert
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