发明名称 Abbildende katoptrische EUV-Projektionsoptik
摘要 Eine abbildende katoptrische Optik (7) hat mindestens vier Spiegel (M1 bis M4), die ein Objektfeld (4) in einer Objektebene (5) in ein Bildfeld (8) in einer Bildebene (9) abbilden. Eine erste Hauptstrahlebene (yz) der Optik ist durch einen Verlauf eines Hauptstrahls (16) eines zentralen Objektfeldpunkts bei der Reflexion an einem der Spiegel (M1) vorgegeben. Eine zweite Hauptstrahlebene (xz) der Optik ist vorgegeben durch einen Verlauf des Hauptstrahls (16) des zentralen Objektfeldpunktes bei der Reflexion an einem anderen der Spiegel (M3, M4). Die beiden Hauptstrahlenebenen (yz, xz) schließen einen von 0 verschiedenen Winkel miteinander ein. Bei einem alternativen oder zusätzlichen Aspekt hat die abbildende Optik (7), betrachtet über das Bildfeld (8), für einen jeweils betrachteten Beleuchtungswinkel eine maximale Diattenuation von 10 % beziehungsweise eine Diattenuation, die eine tangentiale Polarisation des Abbildungslichts bevorzugt. Bei beiden Aspekten resultiert eine abbildende Optik, bei der störende Polarisationseinflüsse bei der Reflexion von Abbildungslicht an den Spiegeln der abbildenden Optik reduziert sind.
申请公布号 DE102011083888(A1) 申请公布日期 2013.04.04
申请号 DE20111083888 申请日期 2011.09.30
申请人 CARL ZEISS SMT GMBH 发明人 RUOFF, JOHANNES;SCHICKETANZ, THOMAS
分类号 G02B17/06;G02B13/14;G03F7/20 主分类号 G02B17/06
代理机构 代理人
主权项
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