METHOD FOR DETERMINING THE THICKNESSES OF LAYERS OF A LAYER SYSTEM

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bestimmung der Dicken von Schichten eines Schichtsystems, bei dem zunächst Rezepturparameter zum Auftragen einer Schicht auf ein Substrat festgelegt werden, wobei die Parameter das Material und den sich daraus ergebenden komplexen Brechungsindex als Funktion der Wellenlänge und die Dicke der zu erzeugenden Schicht umfassen. Entsprechend den Rezepturparametern wird die Schicht dann auf das Substrat aufgetragen. Außerdem werden Messparameter zur Bestimmung der wellenlängenabhängigen Absorption AS(lambda) und/oder Reflexion RS(lambda) festgelegt, wobei die Messparameter den Einfallswinkel, unter dem die Schicht mit Licht zur Messung bestrahlt wird umfassen. Absorption AS(lambda) und/oder die Reflexion RS(lambda) werden dann gemessen, die sich aus der Messung ergebenden Messwerte werden als Messspektrum gespeichert. Bei einem solchen Verfahren werden die Rezeptur- und Messparameter an eine Modellierfunktion übergeben, die anhand der übergebenen Parameter ein aus einer Modellabsorption AlphaMu(lambda) und / oder einer Modellreflexion RM(lambda) gebildetes Modellspektrum bestimmt, wobei durch Variation der Rezepturparameter in der Modellierfunktion das Modellspektrum iterativ so lange angepasst wird, bis Abweichungen von Modell- und Messspektrum der Schicht unterhalb eines vorgegebenen Schwellwerts liegen. Zur Bewertung der Abweichungen wird für jede Wellenlänge die quadratische Abweichung zwischen gemessenem Wert und berechnetem Wert des jeweiligen Spektrums bestimmt, die quadratischen Abweichungen aufsummiert, und die Summe wird mit dem Schwellwert verglichen. Die Iteration wird dann beendet, wenn die Summe der quadratischen Abweichungen unterhalb des Schwellwertes liegt. Die Bestimmung der Modellabsorption AlphaMu(lambda), der Modellreflexion RM(lambda) und/oder der quadratischen Abweichungen erfolgt für mindestens einen Teil der Wellenlängen eines Modellspektrums dabei zeitlich überlappend.