发明名称 |
一种铜铟镓硒薄膜电池透明导电层结构及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种铜铟镓硒薄膜电池透明导电层及其制造方法,属于光电材料新能源技术领域。该铜铟镓硒薄膜电池包括上电极(Ni/Al),透明导电层(ZnO:Al),窗口层(ZnO),缓冲层(CdS),吸收层(P型CuInGaSe2),背电极(Mo)和衬底(玻璃/不锈钢等)。其透明导电层具有“类金字塔”表面陷光结构,为含Al掺杂ZnO薄膜。本发明所提供的“类金字塔”表面陷光结构,可增大光吸收的表面积,能有效地降低反射率,从而降低光学损失并提高电池转化效率。 |
申请公布号 |
CN103022173A |
申请公布日期 |
2013.04.03 |
申请号 |
CN201210531568.7 |
申请日期 |
2012.12.10 |
申请人 |
华南理工大学 |
发明人 |
汤勇;彭洁旻;杨晓军;万珍平;陆龙生;袁伟;梁元敏;钟福回 |
分类号 |
H01L31/0236(2006.01)I;H01L31/0224(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/0236(2006.01)I |
代理机构 |
广州市华学知识产权代理有限公司 44245 |
代理人 |
蔡茂略 |
主权项 |
一种铜铟镓硒薄膜电池透明导电层结构,包括铜铟镓硒透明导电层,其特征在于:所述导电层具有表面陷光结构,该表面陷光结构为类金字塔形。 |
地址 |
510640 广东省广州市天河区五山路381号 |