| 发明名称 | 微波处理装置和被处理体的处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明是在微波处理装置中对被处理体进行均匀的处理的微波处理装置和处理方法。微波处理装置（1）包括：收容晶片（W）的处理容器（2）；微波导入装置（3），其具有生成用于处理晶片（W）的微波的至少一个磁控管（31），并将微波导入处理容器（2）中；和控制微波导入装置（3）的控制部（8）。控制部（8）在用于处理晶片（W）的状态持续的期间，使微波的频率变化。 | ||
| 申请公布号 | CN103021907A | 申请公布日期 | 2013.04.03 |
| 申请号 | CN201210359879.X | 申请日期 | 2012.09.25 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 芦田光利 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01L21/268(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 一种微波处理装置，其特征在于，包括：收容被处理体的处理容器；微波导入装置，其具有生成用于处理所述被处理体的微波的至少1个微波源，将所述微波导入所述处理容器；和控制所述微波导入装置的控制部，所述控制部在用于处理所述被处理体的状态持续的期间，使所述微波的频率变化。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||