用于形成光刻用下层膜的组合物和多层抗蚀图案的形成方法

摘要

本发明提供一种赋予光刻用下层膜良好的光学特性和耐蚀刻性的用于形成光刻用下层膜的组合物，以及由该组合物形成的折射率(n)高、消光系数(k)低、透明且耐蚀刻性高、而且升华性成分极其少的下层膜，以及使用了该下层膜的图案形成方法。这样的用于形成下层膜的组合物至少含有使萘和/或烷基萘与甲醛反应而得到的含有特定单元的萘甲醛系聚合物和有机溶剂。

主权项

1.一种用于形成光刻用下层膜的组合物，该组合物为用于在基板和抗蚀剂层之间形成下层膜的下层膜材料，其中，所述组合物至少含有使萘和/或烷基萘与甲醛反应而得到的萘甲醛系聚合物和有机溶剂，所述聚合物含有用下述通式（1）表示的结构单元，式中，R⁰表示氢原子、甲氧基甲基或羟甲基，多个R⁰相同或不同；R^0a和R^0b各自独立地表示氢原子或碳原子数为1-3的烷基；多个R^0a和多个R^0b相同或不同；X为用-(OCH₂)_t-表示的官能团，t为0-2的整数；n为0-6的整数，na和nb为0-3的整数，且满足0≦n＋na＋nb≦6的条件。