发明名称 辐射源
摘要 本发明提供了一种辐射源。根据本发明的第一方面,提供一种辐射源,包括:贮液器,配置成保持一体积的燃料;喷嘴,与贮液器流体连接,并配置成沿朝向等离子体形成位置的轨迹引导燃料流;激光器,配置成引导激光辐射到等离子体形成位置处的所述流上,以在使用中生成用于生成辐射的等离子体;和燃料污染物控制布置,所述污染物控制布置包括:用于生成磁场的磁场生成元件;用于生成电场的电场生成元件;磁场生成元件和电场生成元件一起配置成确保在使用中磁场和电场在燃料内的污染物的位置或潜在位置处交叠,并确保磁场和电场的通量线在该位置处不平行以便控制污染物的移动。
申请公布号 CN103019036A 申请公布日期 2013.04.03
申请号 CN201210190892.7 申请日期 2012.06.11
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 W·J·麦斯特姆;G·H·P·M·斯温凯尔斯
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 吴敬莲
主权项 一种辐射源,包括:贮液器,配置成保持一体积的燃料;喷嘴,与贮液器流体连接,并配置成沿朝向等离子体形成位置的轨迹引导燃料流;激光器,配置成引导激光辐射到等离子体形成位置处的所述流上以在使用中生成用于生成辐射的等离子体;和燃料污染物控制布置,所述燃料污染物控制布置包括:磁场生成元件,配置成生成磁场;电场生成元件,配置成生成电场;其中磁场生成元件和电场生成元件一起配置成确保在使用中磁场和电场在燃料内的污染物的位置或潜在位置处交叠,并确保磁场和电场的通量线在所述位置处不平行以便控制污染物的移动。
地址 荷兰维德霍温