微波处理装置和被处理体的处理方法

摘要

本发明提供微波处理装置和被处理体的处理方法。在微波处理装置中对被处理体进行均匀的处理。微波处理装置（1）包括：收容晶片W的处理容器（2）、微波导入装置（3）和控制部（8）。微波导入装置（3）具有生成微波的多个磁控管（31），控制部（8）对多个磁控管（31）进行控制，使得在用于处理被处理体W的状态继续的期间，在将多个磁控管（31）的各个任意地组合而成的多个组合的每一个中，并且，在各个组合内同步地，将生成微波的状态与不生成微波的状态交替地反复多次。

主权项

一种微波处理装置，其特征在于，包括：收容被处理体的处理容器；生成用于处理所述被处理体的微波并导入所述处理容器的微波导入装置；和控制所述微波导入装置的控制部，所述微波导入装置具有生成所述微波的多个微波源，能够将多个所述微波同时导入所述处理容器，所述控制部控制所述多个微波源，使得在用于处理所述被处理体的状态继续的期间，在将所述多个微波源的各个任意地组合而成的多个组合的每一个中，并且，在各个组合内同步地将生成所述微波的状态与不生成所述微波的状态交替地反复多次。