发明名称 具有可见光响应的石墨烯纳米带的制备方法
摘要 本发明涉及一种具有可见光响应的石墨烯纳米带的制备方法。本发明的特征是,先采用真空还原法,在300℃下将氧化石墨烯还原成石墨烯,同时石墨烯骨架中的C=C键被破坏掉,再结合超声处理,从而得到长100~400nm,宽20~80nm的石墨烯纳米带。该纳米带暴露出较多的边缘,可以作为一种理想的载体,并表现出半导体的特性。在模拟太阳光的照射下,制备的石墨烯纳米带具有强的光生电子能力及电子传输能力。
申请公布号 CN103011144A 申请公布日期 2013.04.03
申请号 CN201210565983.4 申请日期 2012.12.24
申请人 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司;华东理工大学 发明人 金彩虹;何丹农;刘睿;张金龙;邢明阳;杨小龙
分类号 C01B31/04(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I;B82Y40/00(2011.01)I 主分类号 C01B31/04(2006.01)I
代理机构 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人 陆聪明
主权项 一种具有可见光响应的石墨烯纳米带的制备方法,其特征在于该方法的具体步骤为:将氧化石墨烯,分散于超纯水中,氧化石墨烯与水的质量百分比为0.025:100,超声分散至分散均匀后蒸干,在300℃下真空还原3小时,并再次分散于超纯水中超声分散10min~8小时,其中氧化石墨烯与水的质量百分比为0.003:100,经过水洗涤后,最后分散于超纯水中,得到石墨烯纳米带。
地址 200241 上海市闵行区江川东路28号