发明名称 | 一种用于MOCVD反应室的电磁加热装置 | ||
摘要 | 本发明的一种用于MOCVD反应室的电磁加热装置,包括石墨基座和线圈,所述石墨基座为圆柱形且线圈设置在石墨基座的下方,所述石墨基座上表面设置有向下凹陷的圆环形凹槽。本发明的有益效果是:圆环形凹槽改变了传统石墨基座单一的加热方式,根据电磁感应加热的特性,既有直接的热传导,又有辐射加热,提高了晶片温度分布的均匀性。对于大尺寸的晶片来说,不需要增加基座的高度,结构简单,加热效率高,更加适合在大尺寸的MOCVD反应室中使用。 | ||
申请公布号 | CN103014673A | 申请公布日期 | 2013.04.03 |
申请号 | CN201210577369.X | 申请日期 | 2012.12.27 |
申请人 | 济南大学 | 发明人 | 李志明;李金屏;江海鹰 |
分类号 | C23C16/46(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/46(2006.01)I |
代理机构 | 济南泉城专利商标事务所 37218 | 代理人 | 李桂存 |
主权项 | 一种用于MOCVD反应室的电磁加热装置,包括石墨基座和线圈,其特征在于:所述石墨基座为圆柱形且线圈设置在石墨基座的下方,所述石墨基座上表面设置有向下凹陷的圆环形凹槽。 | ||
地址 | 250000 山东省济南市槐荫区济微路106号 |