发明名称 一种采用无氰化学镀金液的双槽连续镀厚金方法
摘要 一种采用无氰化学镀金液的双槽连续镀厚金方法,涉及无氰化学镀厚金的方法。1)将基底浸入第1无氰化学镀金液中,进行置换镀金,沉积一层薄金,得到的金膜厚度为0.02~0.08μm;2)将步骤1)得到的产物移入第2无氰化学镀金液中,进行还原型化学镀金,沉积一层厚金,得到的金膜厚度达到0.3~2μm。所得金镀层与基底结合力良好、外观金黄、结晶细小致密。金层纯度100%;当金层进行焊接时,没有产生“黑盘”现象。无氰化学镀金液具有实际应用的镀液稳定性。可克服置换镀金工艺中金层较薄、还原型化学镀金工艺中镀液易受污染、化学镀金液含有氰化物等问题。
申请公布号 CN103014685A 申请公布日期 2013.04.03
申请号 CN201310012979.X 申请日期 2013.01.14
申请人 厦门大学 发明人 杨防祖;杨丽坤;任斌;吴德印;田中群
分类号 C23C18/42(2006.01)I;C23C18/18(2006.01)I 主分类号 C23C18/42(2006.01)I
代理机构 厦门南强之路专利事务所 35200 代理人 马应森
主权项 一种采用无氰化学镀金液的双槽连续镀厚金方法,其特征在于包括以下步骤:1)将基底浸入第1无氰化学镀金液中,进行置换镀金,沉积一层薄金,得到的金膜厚度为0.02~0.08μm;2)将步骤1)得到的产物移入第2无氰化学镀金液中,进行还原型化学镀金,沉积一层厚金,得到的金膜厚度达到0.3~2μm。
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