发明名称 基板清洗装置及其方法
摘要 本发明提供基板清洗装置及其方法。基板清洗装置通过清洗带(12)的拂拭面(12a、12b)清洗基板(1)的侧缘部的表侧的清洗面(1a)和背侧的清洗面(1b),基板清洗装置具有:将清洗带(12)按压到清洗面(1a)上的按压构件(11a);将清洗带(12)按压到清洗面(1b)上的按压构件(11b);通过按压构件(11a)与清洗面(1a)之间以及按压构件(11b)与清洗面(1b)之间的带路径;使清洗带(12)和基板(1)沿侧缘部的长度方向相对移动的移动装置。带路径使清洗带(12)以拂拭面(12a)与清洗面(1a)对置的状态沿与基板(1)的侧缘部的长度方向正交的方向通过按压构件(11a)与清洗面(1a)之间,然后进行翻转以使拂拭面(12b)与基板(1)的背侧对置,接着以拂拭面(12b)与清洗面(1b)对置的状态向与按压构件(11a)与清洗面(1a)之间的通过方向相同的方向通过按压构件(11b)与清洗面(1b)之间。
申请公布号 CN102176981B 申请公布日期 2013.04.03
申请号 CN200980139903.5 申请日期 2009.10.29
申请人 松下电器产业株式会社 发明人 渡边雅也;小林荣;壁下朗
分类号 B08B1/00(2006.01)I 主分类号 B08B1/00(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 汪惠民
主权项 一种基板清洗装置,通过具备第一拂拭面和第二拂拭面的布制的清洗带来清洗基板的侧缘部的位于表侧的第一清洗面和位于背侧的第二清洗面,所述基板清洗装置具有:第一按压构件,其将清洗带按压到第一清洗面上;第二按压构件,其将清洗带按压到第二清洗面上;带路径形成构件,其形成通过第一按压构件与第一清洗面之间以及第二按压构件与第二清洗面之间的清洗带的带路径;带供给装置,其向带路径供给清洗带;带回收装置,其从带路径回收清洗带;带驱动装置,其驱动清洗带;清洗剂喷出装置,其向清洗带喷出清洗剂;移动装置,其使清洗带和基板沿该基板的侧缘部的长度方向相对移动,带路径包括:第一路径,其使清洗带以第一拂拭面与第一清洗面对置的状态沿与基板的侧缘部的长度方向正交的方向通过第一按压构件与第一清洗面之间;第二路径,其使通过第一路径后的清洗带翻转,以使第二拂拭面与基板的背侧对置;第三路径,其使通过第二路径后的清洗带以第二拂拭面与第二清洗面对置的状态沿与第一路径上的清洗带的通过方向相同的方向通过第二按压构件与第二清洗面之间。
地址 日本大阪府