发明名称 |
Sistema para producir material difractivo de radiación |
摘要 |
Un sistema (20) para producir material difractivo de radiación que comprende: - un sustrato (24) para recibir una dispersión de partículas de núcleo-vaina que forman una disposiciónperiódica ordenada (2), siendo las vainas hinchables y sustancialmente no formadoras de película; - un dispositivo de liberación de matriz (28) para el recubrimiento de la disposición con una composición dematriz; - una fuente de radiación (32) para iluminar la disposición recubierta; - un detector de radiación (34) para medir el espectro de radiación difractado por la disposición recubierta; - un sistema de curado (30) para curar componentes en la disposición recubierta y fijar las posicionesrelativas de las partículas; y - medios (38) para establecer una correlación entre el espectro medido de luz difractada por la disposiciónrecubierta y un aspecto deseado de la disposición curada. |
申请公布号 |
ES2399858(T3) |
申请公布日期 |
2013.04.03 |
申请号 |
ES20110002614T |
申请日期 |
2006.10.26 |
申请人 |
PPG INDUSTRIES OHIO, INC. |
发明人 |
MERRITT, MARK D.;MUNRO, CALUM H. |
分类号 |
C09B67/00;B05D5/06;C09D5/29 |
主分类号 |
C09B67/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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