发明名称 Sistema para producir material difractivo de radiación
摘要 Un sistema (20) para producir material difractivo de radiación que comprende: - un sustrato (24) para recibir una dispersión de partículas de núcleo-vaina que forman una disposiciónperiódica ordenada (2), siendo las vainas hinchables y sustancialmente no formadoras de película; - un dispositivo de liberación de matriz (28) para el recubrimiento de la disposición con una composición dematriz; - una fuente de radiación (32) para iluminar la disposición recubierta; - un detector de radiación (34) para medir el espectro de radiación difractado por la disposición recubierta; - un sistema de curado (30) para curar componentes en la disposición recubierta y fijar las posicionesrelativas de las partículas; y - medios (38) para establecer una correlación entre el espectro medido de luz difractada por la disposiciónrecubierta y un aspecto deseado de la disposición curada.
申请公布号 ES2399858(T3) 申请公布日期 2013.04.03
申请号 ES20110002614T 申请日期 2006.10.26
申请人 PPG INDUSTRIES OHIO, INC. 发明人 MERRITT, MARK D.;MUNRO, CALUM H.
分类号 C09B67/00;B05D5/06;C09D5/29 主分类号 C09B67/00
代理机构 代理人
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