发明名称 | 制造提供气隙控制的微机电系统装置的方法 | ||
摘要 | 本发明提供用于控制光调制装置的两个层之间的腔的深度的方法和设备。一种制造光调制装置的方法包括:提供衬底;在所述衬底的至少一部分上方形成牺牲层;在所述牺牲层的至少一部分上方形成反射层;以及在所述衬底上方形成一个或一个以上挠曲控制器,所述挠曲控制器经配置以可操作地支撑所述反射层,且在移除所述牺牲层时,形成深度可测量地不同于所述牺牲层的厚度的腔,其中垂直于所述衬底测量所述深度。 | ||
申请公布号 | CN103011049A | 申请公布日期 | 2013.04.03 |
申请号 | CN201210397799.3 | 申请日期 | 2007.05.16 |
申请人 | 高通MEMS科技公司 | 发明人 | 董明皓;利奥尔·科格特 |
分类号 | B81B3/00(2006.01)I | 主分类号 | B81B3/00(2006.01)I |
代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人 | 刘国伟 |
主权项 | 一种微机电装置,其包含:衬底;多个可移动元件,其在所述衬底上方,每一可移动元件通过腔而与所述衬底分离;以及多个挠曲控制器,其在所述衬底上方,所述多个挠曲控制器经配置以可操作地支撑所述可移动元件,其中所述挠曲控制器包含翼形部分,各翼形部分连接至其支撑的一个可移动元件的一部分,且其中所述多个挠曲控制器的至少一个的翼形部分下伏于其所连接和支撑的所述可移动元件的所述部分。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚州 |