发明名称 低耗碱水热制备氧氯化锆的工艺方法
摘要 本发明涉及一种低耗碱水热制备氧氯化锆的工艺方法,属于化合物制备技术领域。本发明是将粉碎后的锆英砂(ZrSiO4)超细粉与NaOH溶液搅拌制浆后置入高压反应釜中进行水热反应,在温度200-300℃、压力3-7MPa、反应时间3-12h的条件下,即反应生成非晶或锥辉石晶的锆硅酸钠(Na2ZrSiO5)前驱体,然后再经盐酸脱钠、除硅、提纯、浓缩结晶,制备得到氧氯化锆晶体。本发明不但解决了锆英砂碱熔法生产氧氯化锆工艺中,NaOH消耗大,能耗高,过量的碱不能进行回收,给环境造成严重污染等问题,而且由该方法得到的氧氯化锆产品杂质含量低,纯度高。
申请公布号 CN103011278A 申请公布日期 2013.04.03
申请号 CN201310010214.2 申请日期 2013.01.11
申请人 周涛;赵蜀春 发明人 周涛;赵蜀春
分类号 C01G25/00(2006.01)I 主分类号 C01G25/00(2006.01)I
代理机构 成都天嘉专利事务所(普通合伙) 51211 代理人 赵丽
主权项 一种低耗碱水热制备氧氯化锆的工艺方法,其特征在于:将粉碎后的锆英砂(ZrSiO4)超细粉与NaOH溶液搅拌制浆后置入高压反应釜中进行水热反应,在温度200‑300℃、压力3‑7MPa、反应时间3‑12h的条件下,即反应生成非晶或锥辉石晶的锆硅酸钠前驱体,然后再经盐酸脱钠、除硅、提纯、浓缩结晶,制备得到氧氯化锆晶体。
地址 610031 四川省成都市金牛区交大路227号3栋1单元103
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