发明名称 |
形成浮雕图像的掩模薄膜及其用法 |
摘要 |
一种掩模-形成薄膜具有一个位于可成像层与载片之间的透明层,该透明层的折射率比载片或透明层与载片之间的任何紧邻层的折射率低(至少0.04)。在掩模图像转移期间,该较低的折射率层改变了入射辐射的路径,从而使浮雕图像实面积具有更陡峭的肩角。 |
申请公布号 |
CN101681091B |
申请公布日期 |
2013.04.03 |
申请号 |
CN200880019176.4 |
申请日期 |
2008.06.03 |
申请人 |
伊斯曼柯达公司 |
发明人 |
G·L·兹沃罗;D·E·布朗;E·A·富伦卡姆;A·P·斯托尔特 |
分类号 |
G03F1/68(2012.01)I;G03F7/20(2006.01)I;B41M5/40(2006.01)I;B41M5/52(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/68(2012.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
赵苏林;韦欣华 |
主权项 |
一种薄膜,包含:透明载片,其上依次有:透明层,其包含含氟弹性体,且所述透明层的厚度为0.25~10μm,以及所述透明层的折射率比所述载片的折射率低至少0.04,中间层,其包含纤维素聚合物、聚乙烯醇缩丁醛或水解苯乙烯马来酸酐或耐热聚合物,且其厚度为0.1~10μm,阻隔层,其包括聚氰基丙烯酸酯或硝化纤维素,以及红外辐射吸收染料,至少一层非卤化银热敏可成像层,其包含红外辐射吸收染料和UV‑吸收着色剂,其分散在聚氨酯、聚乙烯醇缩丁醛、丙烯酰胺聚合物、硝化纤维素或聚缩醛粘合剂中,并且罩面层,其包含氟聚合物颗粒,其中所述薄膜给成像辐射敏感元件提供肩角为至少50°的浮雕图像。 |
地址 |
美国纽约州 |