发明名称 | 一种均衡铝电解槽氧化铝浓度的装置及方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种均衡铝电解槽氧化铝浓度的装置及方法。该装置和方法是通过阳极电流密度监测模块M1进行阳极电流密度的实时监测,并将监测到的阳极电流密度数据上报电解槽控制系统的CPU;电解槽控制系统的CPU接收到阳极电流密度监测模块M1发送的阳极电流密度数据后,启动氧化铝浓度估算模块M2对阳极电流密度偏高和偏低的位置进行氧化铝浓度估算,根据估算结果增加或减少下料,直至阳极Ai处氧化铝浓度回到正常控制范围。本发明的装置和方法不需要改变现有电解工艺,易于工业实施,有效避免了电解槽内边角区域出现氧化铝浓度过低或新换阳极区域出现氧化铝浓度过高,可明显减少阳极副反应、减少闪烁效应发生和PFC排放,有利于电解槽的高效稳定运行。 | ||
申请公布号 | CN103014773A | 申请公布日期 | 2013.04.03 |
申请号 | CN201210483789.1 | 申请日期 | 2012.11.26 |
申请人 | 中国铝业股份有限公司 | 发明人 | 陈喜平;李旺兴;余峰涛;邱仕麟 |
分类号 | C25C3/20(2006.01)I | 主分类号 | C25C3/20(2006.01)I |
代理机构 | 中国有色金属工业专利中心 11028 | 代理人 | 李子健;李迎春 |
主权项 | 一种均衡铝电解槽氧化铝浓度的装置,其特征在于,所述装置包括:阳极电流密度监测模块M1,其用于进行阳极电流密度的实时监测,并将监测到的阳极电流密度数据上报电解槽控制系统的CPU;氧化铝浓度估算模块M2,其用于进行氧化铝浓度估算;氧化铝小下料控制模块M3,其用于进行小下料的控制;电解槽控制系统的CPU,其接收到阳极电流密度监测模块M1发送的阳极电流密度数据后,启动氧化铝浓度估算模块M2对阳极电流密度偏高和偏低的位置进行氧化铝浓度估算,如果阳极Ai处氧化铝浓度偏低,该CPU将向氧化铝小下料控制模块M3下达小下料指令,氧化铝小下料控制模块M3对阳极Ai处进行小下料操作,并将下料情况上报该CPU;如果阳极Ai处氧化铝浓度偏高,该CPU将控制阳极Ai附近的中间下料器减少下料量;该CPU启动氧化铝浓度估算模块M2再次进行氧化铝浓度估算,并确认阳极Ai处氧化铝浓度是否回到正常控制范围;如果阳极Ai处氧化铝浓度仍然偏低或偏高,将重复减少下料操作或小下料操作,直至阳极Ai处氧化铝浓度回到正常控制范围。 | ||
地址 | 100082 北京市海淀区西直门北大街62号 |