发明名称 化学气相沉积装置及其喷头
摘要 本发明提供了一种化学气相沉积装置及其喷头,所述喷头包括:主体,所述主体的一侧具有进气口,另一侧具有出气口;底板,所述底板与主体活动连接,并密封所述出气口,所述底板包括至少两部分,所述底板的各部分之间密封活动连接,所述底板的各部分上具有通孔,气体从主体的进气口进入后,从所述通孔排出。本发明提高了化学气相沉积的膜层均匀性。
申请公布号 CN102051595B 申请公布日期 2013.04.03
申请号 CN200910208833.6 申请日期 2009.10.29
申请人 无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司 发明人 卜维亮;平延磊;张炳一
分类号 C23C16/44(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I 主分类号 C23C16/44(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 李丽
主权项 一种化学气相沉积装置的喷头,其特征在于,所述喷头包括:主体,所述主体的一侧具有进气口,另一侧具有出气口;底板,所述底板与主体活动连接,并密封所述出气口,所述底板包括至少两部分,所述底板的各部分之间密封活动连接,所述底板的各部分上具有通孔,气体从主体的进气口进入后,从所述通孔排出;其中所述底板为圆形,并被分为四部分,每部分为四分之一圆形,所述密封活动连接的实现方式为:在主体内设置两个经过圆心的、互相垂直的挡板,所述挡板连接在主体的侧壁上,使得底板的各部分以活塞的形式嵌在主体内。
地址 214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区汉江路5号