发明名称 |
配位基团修饰的石墨烯的制备方法和应用 |
摘要 |
本发明是和配位基团修饰的氧化石墨烯,其具有以下的分子式G(A-B)x;其中,G代表氧化石墨烯,A是具有连接功能的基团:-(CH2)m-、-NH-、-S-、-O-Si(-CH2)m(-OR1)2-、-C(=O)-、-C(=O)-O-、-C(=O)-N-、-P(=O)2-O-、这里m值是1-12,R1是H和C1-C12烷基基团;B是配位基团,每个氧化石墨烯单元对配位基团的比率为1∶0.00001到1∶0.5.这种配位基团修饰的氧化石墨烯及还原氧化石墨烯具有广泛的用途。 |
申请公布号 |
CN103025654A |
申请公布日期 |
2013.04.03 |
申请号 |
CN201080059630.6 |
申请日期 |
2010.12.22 |
申请人 |
蒙特克莱尔州立大学 |
发明人 |
侯施凤 |
分类号 |
C01B31/04(2006.01)I |
主分类号 |
C01B31/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京华科联合专利事务所 11130 |
代理人 |
王为 |
主权项 |
一种具有以下结构的配位基团修饰的石墨烯物质:其分子式可表述为G(A‑B)x。其中,G是氧化石墨烯;A是具有以下结构的连接基团:‑(CH2)m‑、‑NH‑、‑S‑、‑O‑Si(‑CH2)m(‑OR1)2‑、‑C(=O)‑、‑C(=O)‑O‑、‑C(=O)‑O(CH2)m‑、‑C(=O)‑NH‑、‑C(=O)‑NH‑(CH2)m‑、‑P(=O)2‑O‑;其中,m为1‑12,R1为H,或C1‑C12烷基。B是具有配位功能的配位基团,其中,其中,基本氧化石墨烯单位对X的比率为:1:0.00001到1:0.5。 |
地址 |
美国新泽西州蒙特克莱尔区第一师范大街学院厅NJ07043 |