| 发明名称 | 用于微光刻的投射物镜 | ||
| 摘要 | 一种用于微光刻的投射物镜(7)被用于将物平面(5)中的物场(4)成像为像平面(9)中的像场(8)。所述投射物镜(7)包括至少六个反射镜(M1至M6)，其中至少一个反射镜具有自由形状反射面。根据本发明的第一方面，投射物镜(7)的总长度(T)与物像位移(dOIS)的比小于12。根据本发明的另一方面，像平面(9)是物平面(5)的下游的投射物镜(7)的第一个场平面。根据本发明的另一方面，投射物镜具有多个反射镜(M1至M6)，其中总长度(T)与物像位移(dOIS)之间的比小于2。 | ||
| 申请公布号 | CN101978324B | 申请公布日期 | 2013.04.03 |
| 申请号 | CN200980110023.5 | 申请日期 | 2009.02.28 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 | 发明人 | 约翰尼斯·泽尔纳;汉斯-于尔根·曼;马丁·恩德雷斯 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 邱军 |
| 主权项 | 用于将物平面(5)中的物场(4)成像为像平面(9)中的像场(8)的用于微光刻的投射物镜，所述投射物镜包括‑至少六个反射镜(M1至M6)，其中至少一个反射镜具有自由形状反射表面，所述自由形状反射表面是不能通过相对于所标记的轴旋转对称的函数描述的表面，该标记的轴为所述反射镜的表面的表面区域的法线，‑其中，所述投射物镜的总长度(T)与物像位移(dOIS)之间的比小于12。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||