抗蚀剂图形形成方法

摘要

本发明提供抑制表面缺陷的图形形成方法。该图形形成方法包括在曝光后，在抗蚀剂表面上形成酸性的膜，然后，进行加热处理。用于形成ArF准分子激光等的短波长光、浸液光刻等的非常细微的图形的场合。

主权项

一种图形形成方法，其特征在于，该方法包括：在基板上涂覆抗蚀剂组合物，形成抗蚀膜；对上述抗蚀膜进行曝光；在上述抗蚀膜上涂覆酸性膜形成组合物，用酸性膜来覆盖，该酸性膜形成组合物包含不溶解上述抗蚀膜的溶剂和聚合物，并且该酸性膜形成组合物的pH在1.4～2.7的范围内；对上述抗蚀膜进行加热；通过显影液而进行显影。