发明名称 | 化学气相沉积装置 | ||
摘要 | 一种化学气相沉积装置,包括:反应腔、冷却装置、位于所述反应腔顶部的喷淋组件以及与所述喷淋组件相对设置的基座,所述基座具有加热单元,所述喷淋组件包括第一进气装置以及第二进气装置,用于分别将第一气体以及第二气体传输至基座与喷淋组件之间的反应区;设置在所述第一进气装置和所述第二进气装置之间的间隔件,所述冷却装置、所述第一进气装置、所述间隔件和所述第二进气装置依次层叠设置,所述间隔件的热传导系数小于所述第一进气装置的热传导系数,在所述加热单元加热过程中,所述第一进气装置与所述第二进气装置具有不同的温度。本发明可以为不同进气装置中的气体提供不同的温度。 | ||
申请公布号 | CN103014664A | 申请公布日期 | 2013.04.03 |
申请号 | CN201110287031.6 | 申请日期 | 2011.09.23 |
申请人 | 理想能源设备(上海)有限公司 | 发明人 | 奚明;马悦;萨尔瓦多;林芳;黄占超 |
分类号 | C23C16/455(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I |
代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 骆苏华 |
主权项 | 一种化学气相沉积装置,包括:反应腔、冷却装置、位于所述反应腔顶部的喷淋组件以及与所述喷淋组件相对设置的基座,所述基座具有加热单元,所述喷淋组件包括第一进气装置以及第二进气装置,用于分别将第一气体以及第二气体传输至基座与喷淋组件之间的反应区;其特征在于,还包括:设置在所述第一进气装置和所述第二进气装置之间的间隔件,所述冷却装置、所述第一进气装置、所述间隔件和所述第二进气装置依次层叠设置,所述间隔件的热传导系数小于所述第一进气装置的热传导系数,在所述加热单元加热过程中,所述第一进气装置与所述第二进气装置具有不同的温度。 | ||
地址 | 201203 上海市浦东新区张江居里路1号 |